Managed hosting door True

Intel slaat volgende litho-generatie over

 

Intel koopt niet de volgende generatie van de lithografie-apparatuur waarmee het zijn chips produceert. Dit laat de chipproducent weten aan zijn lithografie-toeleveranciers, waaronder het Veldhovense Asml.

Intel wil de levensduur verlengen van zijn huidigewafersteppers, die chipplakken (wafers) etsen met lichtgolflengtes van 193 nanometer. De aanstaande volgende generatie werkt op 157 nanometer. Daarna volgt een overstap naar apparatuur die extreem ultraviolet licht gebruikt om de meer dan microscopisch kleine circuits op halfgeleiders te etsen.
 
Pentium-producent Intel wil in één keer over naar die EUV-apparatuur (Extreme Ultra-Violet), waarmee in een vacuüm een lichtgolflengte van 13,5 nanometer wordt gebruikt. Het vacuüm is nodig omdat de lichtgolflengte dermate laag is dat gassen, waaronder zuurstof, het licht niet meer doorlaten. Dit verandert het complete ontwerp van de chipproductie-machines.
 
Het probleem is dat deze geavanceerde apparatuur nog enkele jaren op zich laat wachten. De machines voorlopig nog in ontwikkeling. Asml werkt samen met Philips en TNO aan EUV. Intel investeert zelf ook veel in EUV. Het werkt hiervoor samen met hofleverancier Asml, maar ook met diens concurrenten Nikon en Canon.
 
Kijk voor een uitgebreid artikel in deComputable van 30 mei 2003.

Dit artikel is afkomstig van Computable.nl (https://www.computable.nl/artikel/242909). © Jaarbeurs IT Media.

?


Lees meer over


Partnerinformatie
 
Vacatures

Stuur door

Stuur dit artikel door

Je naam ontbreekt
Je e-mailadres ontbreekt
De naam van de ontvanger ontbreekt
Het e-mailadres van de ontvanger ontbreekt

×
×