Managed hosting door True

Pentium-producent onthult prototype geheugenchips op 65 nanometer

Intel loopt uit op AMD

 

Intel lijkt zijn voorsprong in productietechnologie op AMD te vergroten. De chipproducent heeft in zijn nieuwe fabriek in Hillsboro (Oregon, VS) werkende prototypes van geheugenchips geproduceerd met de kleinere transistorlijnmaat van 65 nanometer.

  
Intels D1D-fabriek in Hillsboro (Oregon, VS) heeft werkende prototypes afgeleverd van geheugenchips met 65 nanometer transistorlijnen. De bouw van deze productiefaciliteit is eind 2001 begonnen en midden dit jaar afgerond.

Die sram-chips (static random access memory) zijn geproduceerd met de tweede generatie van Intels strained silicon-technologie, die begin deze maand is onthuld. Daarbij is de bruikbaarheid voor 65 nanometer reeds bekeken en goed bevonden. Onderzoekers van het bedrijf zetten deze technologie gedetailleerd uiteen in een rapport dat ze komende week onthullen op de International Electronics Meeting in Washington DC.
De nu onthulde prototypes zijn 4 Megabit geheugenchips met een celomvang van 0,57 vierkante micron. Twee jaar geleden wist Intel 90 nanometer sram-prototypes te maken met een celmaat van 1 vierkante micron. Hoofdonderzoeker Mark Bohr stelt dan ook dat de nieuwe chips de voorzetting van de Wet van Moore garanderen.
Verder zijn de 65 nanometer-prototypes gemaakt in plakken van 300 millimeter. De verkleining van de lijnen tussen transistoren op een chip (de transistorlijnmaat) biedt een hoger prestatieniveau tegen een relatief lager energieverbruik, of juist alleen een extra laag energieverbruik. Bohr spreekt van 40 tot 50 procent snelheidsverhoging zonder dat andere verbeteringen zijn aangebracht.
Daarnaast kunnen chips hierdoor kleiner zijn, hetgeen leidt tot een verhoging van het aantal per productieronde. De tweede vooruitgang, de vergroting van de chipplakomvang, maakt het ook mogelijk per productieronde meer chips te snijden uit de grotere plakken. Hierdoor daalt de prijs per stuk. De massaproductie van deze geheugenchips staat volgens planning voor 2005 op stapel.

Nieuwe fabriek AMD

Concurrent AMD liet vorige week weten een nieuwe fabriek in het Duitse Dresden neer te zetten. Die nieuwe faciliteit - de chipproducent heeft reeds een fabriek in Dresden - zal chipplakken van 300 millimeter produceren en daarbij waarschijnlijk ook meteen met transistorlijnen van 65 nanometer. De bouw van Fab36 kost 2,4 miljard dollar en is naar verwachting in 2006 klaar, waarna de productie op gang kan komen. Die staat aanvankelijk gepland voor dertienduizend chipplakken per maand, maar dat moet later stijgen naar twintigduizend stuks.
Ondertussen stelt AMD zijn overstap naar 90 nanometer iets uit. De massaproductie van chips met die maat transistorlijnen komt pas in het derde kwartaal van komend jaar op gang. Eerst sprak het bedrijf nog van de tweede helft van 2004. AMD-president Hector Ruiz geeft toe dat de 90 nanometer-uitrol twee tot drie maanden vertraging heeft opgelopen. De aanloop (ramp up) naar de massaproductie is dan ook verschoven van het tweede naar het derde kwartaal.

  
Intels D1D-fabriek in Hillsboro (Oregon, VS) heeft werkende prototypes afgeleverd van geheugenchips met 65 nanometer transistorlijnen. De bouwvan deze productiefaciliteit is eind 2001 begonnen.

Daarnaast blijft de Athlon- en Opteron-producent de komende twee jaar nog 200 millimeter-plakken produceren. Ruiz ontkent dat dit een groot nadeel is. Hij wijst erop dat de overgang naar 90 nanometer op zichzelf al genoeg schaalvoordeel met zich meebrengt.

Overschakeling

Intel heeft al enkele van zijn fabrieken overgeschakeld naar 300 mm, maar dan nog op 90 nanometer wat nu de normrol overneemt van 130 nm. De nieuwe fabriek in Hillsboro gaat als eerste over naar 65 nanometer. De D1C-fabriek, die zich op dezelfde Intel-campus (Ronler Acres) in Hillsboro bevindt, is reeds over naar de nieuwe standaardmaat-in-wording (90 nm).
De bouw van D1D is in november 2001 begonnen en heeft een slordige 2 miljard dollar gekost. De faciliteit is in april dit jaar officieel geopend. Algemeen directeur Sunlin Chou van de technologie- en fabricagegroep zei toen al dat D1D een sleutelrol zal spelen in Intels vooruitgang op het gebied van onderzoek, ontwikkeling en productie. De fabriek is bij de bouw al opgezet voor de ontwikkeling van productieprocessen voor 300 mm-chipplakken met een transistorlijnmaat van 65 nm .
Intel deelt zijn fabrieken afwisselend in voor procesontwikkeling en massaproductie. Terwijl de ene fabriek een volgende generatie productieproces onderzoekt, ontwikkelt en uiteindelijk uitprobeert, fabriceren de andere fabrieken middels het reeds uitgewerkte, voorgaande generatie productieproces. Na de ontwikkeling en beproeving van de volgende generatie wordt dat productieproces dan overgebracht naar de andere fabrieken.
Het bedrijf ligt op schema met zijn eerder aangekondigde streven om in 2005 de eerste 65 nm-chips op de markt te brengen. De vorige week onthulde prototypes zijn echter geproduceerd met alternating phase shift masks (apsm) die aanmerkelijk duurder zijn dan de reguliere attenuated phase shift masks. Dit is de voornaamste verandering in vergelijking met het 90 nm-productieproces.
Hoofdonderzoeker Bohr stelt dat de hogere maskerprijs door de hoge volumes van Intels productie geen probleem vormt voor de totale kosten. De uitgaven aan maskers zijn slechts een klein deel van de kosten, aldus Bohr. Bovendien heeft Intel nog geen definitieve beslissing genomen of het apsm's gebruikt voor 65 nm. Het onderzoekt dan ook nog alternatieven.< BR>

Dit artikel is afkomstig van Computable.nl (https://www.computable.nl/artikel/1285325). © Jaarbeurs IT Media.

?


Lees meer over


 
Vacatures

Stuur door

Stuur dit artikel door

Je naam ontbreekt
Je e-mailadres ontbreekt
De naam van de ontvanger ontbreekt
Het e-mailadres van de ontvanger ontbreekt

×
×